- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
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- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
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- 區(qū)域提純爐
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- 粉末壓片機(jī)
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- 真空熱壓機(jī)
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- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
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- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀設(shè)備用途:
有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀用于生長(zhǎng)薄膜太陽(yáng)能電池,EL OEL分子有機(jī)電致發(fā)光器件薄膜的研究工作。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研與小批量制備。
有機(jī)無機(jī)蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
真空室 |
二個(gè)D型真空室,尺寸均約為?450×H750mm; 兩個(gè)真空室的真空系統(tǒng)配置、極限壓力、恢復(fù)真空時(shí)間、熱阻蒸發(fā)舟及電源、膜厚監(jiān)測(cè)儀、真空室照明裝置、烘烤裝置、樣品臺(tái)的配置與技術(shù)參數(shù)指標(biāo)相同; |
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真空系統(tǒng)配置 |
日本進(jìn)口低溫泵、無油渦旋干泵與電磁、復(fù)合數(shù)顯真空測(cè)量規(guī)與計(jì)、閥門等。 |
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極限壓力 |
≤2.0×10-5Pa |
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恢復(fù)真空時(shí)間 |
40分鐘可達(dá)到1×10-4Pa |
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電動(dòng)磁力耦合樣品傳遞裝置 |
真空室1 |
采用磁力耦合line motion傳遞裝置,采用步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng),設(shè)有遠(yuǎn)程手控控制盒,可控制直線前進(jìn)后退。 |
有機(jī)蒸發(fā)源及電源 |
真空室1 |
新型0EL升華型蒸發(fā)源9支,每支蒸料可裝10CC,室溫-800℃7支,室溫-1000℃2支;蒸發(fā)源電源4臺(tái)。 |
真空室2 |
新型0EL升華型蒸發(fā)源6支,每支蒸料可裝10CC,室溫-800℃6支;蒸發(fā)源電源3臺(tái)。 |
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熱阻蒸發(fā)舟及電源 |
新型蒸發(fā)舟2組(熱阻蒸發(fā)舟); 數(shù)字式熱阻蒸發(fā)電源1臺(tái),帶有細(xì)調(diào)功能(0.1安培);鍍鋁專用盒式蒸發(fā)舟:2個(gè); 普通金屬蒸發(fā)舟10個(gè);蒸發(fā)源擋板2套; |
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膜厚監(jiān)測(cè)儀 |
厚度分辨率 |
不平均:0.0133埃/測(cè)量;50個(gè)樣品平均:0.002埃/測(cè)量 |
速率分辨率 |
不平均:0.0133埃/秒;50個(gè)樣品平均:0.02埃/秒 |
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精度 |
0.03HZ/測(cè)量,2ppm |
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速度 |
每秒測(cè)量十次 |
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真空室照明裝置 |
采用LED外照明方式.避免鍍膜污染照明燈 |
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烘烤裝置 |
在真空室外烘烤帶的烘烤方式 |
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樣品臺(tái) |
樣品尺寸 |
可放置一塊100×100mm或者50×50mm基片 |
運(yùn)動(dòng)方式 |
可電動(dòng)上下升降,可旋轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速為0-30轉(zhuǎn)/分,轉(zhuǎn)速可調(diào) |
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